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Xia A-gen Ye Jian-ting Ye Quan-lin Tao Xiang-ming Jin Jin-sheng Ye Gao-xiang 《浙江大学学报(A卷英文版)》2001,2(4):379-383
A new aluminum thin film percolation system, deposited on glass and silicon wafer surfaces by a vapor deposition method, was
investigated. By using the expansive and mobile behaviors of the silicone oil, the Al films are quenched gradually by the
silicone oil during the deposition process. TheR-I behavior of the film system was studied, and the anomalous conductivity indicated that, at very low current, the hopping
and tunneling effects in the films are much stronger than those of the normal film systems.
Project supported by NSFC (Grant No. 19874016) and the Special Fund of Zhejiang Provincial Natural Science Foundation for
Young Scientists (Grant No. 1997-RC9603). 相似文献
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ＩＮＴＲＯＤＵＣＴＩＯＮＴｈｅｎａｔｕｒｅｏｆｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｈａｓａｃｒｕｃｉａｌｅｆｆｅｃｔｏｎｂｏｔｈｔｈｅｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｏｆｔｈｅｆｉｌｍｓａｎｄｔｈｅｇｒｏｗｔｈｍｅｃｈａｎｉｓｍ (Ｈａｕｓｅｔａｌ.,1 987;Ｋｒｕｇｅｔａｌ.,1 990 ) .Ｆｏｒｉｎｓｔａｎｃｅ,ｔｈｅｔｏｐｓｕｒｆａｃｅｓｏｆｍｅｔａｌｌｉｃｔｈｉｎｆｉｌｍｓｄｅｐｏｓｉｔｅｄｏｎｓｏｌｉｄｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｇｅｎｅｒａｌｌｙｈａｖｅａｒｏｕｇｈｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ,ｗｈｉｃｈｃａｎｂｅｄｅｓｃｒｉｂｅｄｂ… 相似文献
3.
采用真空蒸发方法在硅油表面制备了一种具有自由支撑边界条件的铜薄膜系统并研究了其成膜机理和带状有序结构。实验发现：此类铜薄膜的生长机制近似服从二阶段生长模型。进一步实验发现：铜分枝状凝聚体在大气中作无规扩散和旋转,直到在某处堆积或者连接。在该连续铜薄膜系统中,我们观察到了带状有序结构。该有序结构是由一系列长度基本一致而宽度不尽相同的平行键块组成。实验结果表明：该有序结构是在样品被取出真空腔之前,由于液体基底的收缩导致薄膜压应力而形起的。理论推测铜薄膜中可能同时存在一系列不同类型的正弦型内应力分布,而这种内应力分布最终导致带状有序结构的形成。 相似文献
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Jin Jin-sheng 《浙江大学学报(A卷英文版)》2001,2(4):384-387
The surface morphology and growth mechanism of an aluminum film system deposited on silicone oil surfaces by a vapor depositing
method was investigated by scanning electron microscopy. It was found that the perpendicular fluctuation of the film's bottom
surface was more remarkable than that of the film's top surface. Near the joint between the film on the silicone oil substrate
and the film on the silicon wafer surface on which the silicone oil substrate rested, was a naturally formed anomalous wedge-shaped
wrinkly structure with slopes of 10−4–10−5 rad, whose growth mechanism could be interpreted under the assumption of the thermal expansion behavior of the liquid substrates.
Project supported by NSFC (No. 19874016) and the Special Fund of Zhejiang Provincial Natural Science Foundation for Young
Scientists (Grant No. 1997RC9603). 相似文献
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6.
采用直流磁控溅射方法在硅油基底上沉积出具有自由支撑边界条件的金属银薄膜系统,研究了银薄膜在大气环境中的表面形貌演化规律及其物理机理。实验发现银薄膜在真空状态下基本稳定,但在大气环境中发生强烈的收缩效应,使得薄膜开裂,其表面覆盖率不断降低。分析表明这一动态演化过程基本满足指数衰减规律,并可用薄膜内应力的不断释放加以解释。随着银薄膜的不断收缩,薄膜表面可呈现出异常丰富的褶皱形貌:在薄膜边界附近呈现基本垂直于边界的直线状条纹结构;而在薄膜中间区域,将形成二次起皱的扭曲状花样和无序网格状褶皱形貌。从单轴应力和双轴应力理论的角度出发,对各类奇特的褶皱形貌进行了细致的分析和讨论。 相似文献
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High resistance thin film chip resistors(0603 type) were studied,and the specifications are as follows:1 k? with tolerance about ±0.1% after laser trimming and temperature coefficient of resistance(TCR) less than ±15×10-6/℃.Cr-Si-Ta-Al films were prepared with Ar flow rate and sputtering power fixed at 20 standard-state cubic centimeter per minute(sccm) and 100 W,respectively.The experiment shows that the electrical properties of Cr-SiTa-Al deposition films can meet the specification requirements of 0603 type thin film chip resistors when the deposition time was about 11 min and deposition films were annealed at 500 ℃ for 120 min.The morphologies of Cr-Si-TaAl film surfaces were examined by scanning electron microscopy(SEM).The analysis suggests that Ta and Al may be distributed in CrSi2 film with mixed form of several structures(e.g.,bridge-like,capillary-like or island-like structures),and such a structure distribution is responsible for high film resistance and low TCR of Cr-Si-Ta-Al film. 相似文献
8.
高温超导薄膜生长是研究超导现象和超导器件的基础,一直是凝聚态物理研究的一个重要课题。各种各样的薄膜生长方法都被应用于高温超导薄膜的生长研究。本文采用一种崭新的薄膜沉积设备———脉冲电子束沉积系统（PED）成功制备出了NCCO,LSCO高温超导薄膜,并通过优化沉积参数,获得了具有良好表面形貌和超导转变特性的高温超导薄膜。 相似文献
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本文将具有独特结构的ZrO2溶胶-凝胶多层薄膜用来吸入蛋白质或酶,并研究了蛋白质的电化学响应.实验结果表明,Mb在ZrO2溶胶-凝胶薄膜中表现出了良好的电化学性质,这主要归因于ZrO2溶胶-凝胶薄膜有着良好的通透性和多孔性.探讨了肌红蛋白吸入到层层组装薄膜中的驱动力. 相似文献
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反射式高能电子衍射是一种对薄膜表面结构非常敏感的实时监测手段,通过对衍射花样的研究可以获得诸多有益的信息,将其引入薄膜制备装置对高质量薄膜的生长有着积极的指导意义。 相似文献
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准自由支撑铝薄膜系统的制备及其特征表面形貌 总被引：1，自引：0，他引：1
采用真空蒸发的方法在液体基底表面成功制备了具有自由支撑边界条件的金属铝薄膜系统，观察并研究了薄膜中的特征表面形貌。实验发现：铝薄膜中存在着由一块块近似为长方形的畴块连接而成的自薄膜边缘向薄膜内部区域生长的特征带状结构形貌；带状结构中畴块的最大长度和最大宽度均先随薄膜厚度的增加而增大，随后稳定变小。分析认为：这些现象是由于液体基底与固体薄膜之间的特征相互作用所致。 相似文献
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1 Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｂｅｃａｕｓｅｏｆｔｈｅｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｏｆａｎｕｍｂｅｒｏｆｆａｖｏｒａｂｌｅｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ,ｓｕｃｈａｓｈｉｇｈｈａｒｄｎｅｓｓ,ｈｉｇｈｃａｒｒｉｅｒｍｏｂｉｌｉｔｙａｎｄｂｒｅａｋｄｏｗｎｖｏｌｔａｇｅ,ｌａｒｇｅｂａｎｄｇａｐ ,ｌｏｗｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃｃｏｎｓｔａｎｔ,ａｎｄｔｒａｎｓｐａｒｅｎｃｙｔｏｖｉｓｉｂｌｅｌｉｇｈｔ,ＩＲｌｉｇｈｔａｎｄｍｉｃｒｏｗａｖｅｓ,ｅｔｃ.[1] ,ｄｉａｍｏｎｄｆｉｌｍｈａｓｂｅｅｎｃｏｎｓｉｄｅｒ ａｂｌｙｐｒｏｍ… 相似文献
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以透明导电玻璃(TCO)为衬底,用硝酸锌水溶液作为电解液,采用阴极电沉积法合成了ZnO薄膜.通过改变电解液浓度、温度和沉积电压等实验条件,系统研究了锌氧化物薄膜材料的电化学沉积过程.用扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见光谱法等技术对沉积物的形貌、结构及光学性质进行了表征.结果表明,通过控制电解液的浓度和温度及沉积电压等反应条件可以制备出不同形貌的ZnO薄膜.XRD结果表明,所得的ZnO纯度高且呈六方纤锌矿结构;光谱法研究表明,该薄膜在344 nm和552 nm处有两个吸收峰,禁带宽度为3.25 eV. 相似文献
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Low valence vanadium oxide（VO2-x） thin films were prepared on SiO2/Si substrates at room temperature by direct current facing targets reactive magnetron sputtering, and then processed through rapid thermal annealing. The effects of the annealing on the structure and phase transition property of VO2 were discussed. X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray diffraction technique and Fourier transform infrared spectroscopy were employed to study the phase composition and structure of the thin films. The resistance-temperature property was measured. The results show that VO2 thin film is obtained after annealed at 320℃ for 3 h, its phase transition temperature is 56 ℃, and the resistance changes by more than 2 orders. The vanadium oxide thin films are applicable in thermochromic smart windows, and the deposition and annealing process is compatible with micro electromechanical system process. 相似文献
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实验利用飞秒脉冲激光沉积Cu纳米颗粒薄膜,获得不同激光能量时溅射Cu粒子空间分布结果,并结合Matlab、Excel和Origin等软件对这些数据进行处理分析。实验结果表明：Cu纳米颗粒的空间分布遵循Anisimov气体膨胀模型,大部分的粒子主要集中在基片与溅射源中心线附近在小立体角度（θ〈30°）范围扩散。最后,实验选取合适立体溅射角度（θ≈30°）,能量密度约为0．72J／cm2时,在不同曝光时间条件下溅射Cu纳米颗粒薄膜,并采用原子力显微镜（AFM）表征了膜厚变化情形,综合分析了纳米颗粒薄膜空间沉积成膜的过程和规律,为后继数值模拟分析提供了实验验证依据。 相似文献
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通过Raman光谱、紫外-可见透射光谱技术及原子力显微镜对非晶碳化硅薄膜结构和光学特性的热退火效应进行了研究。结果表明,碳化硅拉曼谱带随退火温度的增加而逐渐红移和尖锐化,显示了薄膜中晶化有序度的提高。退火后薄膜包含大量紧凑的纳米团簇,膜面相对于未退火样品较为粗糙。根据紫外-可见透射光谱导出的光学带隙从原始样品的1．86eV连续增加到经1050℃退火样品的2．23eV。碳化硅薄膜中纳米团簇的形成及其晶化程度的增加导致了薄膜光学带隙的蓝移效应。 相似文献
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单源超声雾化室实验系统在制备掺杂薄膜时,由于制备前驱源溶液与掺杂溶液混合在同一个雾化室,几种不同的溶液之间相互影响,对制备高质量的掺杂薄膜非常不利;同时单源超声雾化室的沉积速度较慢,不利于向工业化方向转化;双源超声雾化室避免了在制备掺杂薄膜时掺杂溶液和源溶液混合而互相污染的弊病,从根本上解决了单源超声雾化热喷涂法制备掺杂薄膜存在的问题;同时衬底取向朝下,采用竖直向上的供料方式沉积薄膜,利用重力直接筛选大雾滴,沉积薄膜的雾滴粒径分布更加集中。 相似文献
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以二甲基硅油（500mm^2／s）为主要原料,选用非离子表面活性剂span-60与阳离子表面活性剂1831为复配乳化剂,采用转相乳化法,探究了乳化温度、乳化时间、乳化剂配比、硅油用量等因素对硅油乳液性能的影响．最佳工艺条件为：硅油用量为10％（相对乳液总量）,乳化剂配比为span-60：1831=0．47：0．53,乳化剂用量为5％（相对乳液总量）,乳化温度为90℃,乳化时间为60min．此条件下制得的硅油乳液外观均匀、细腻、无颗粒,具有良好的水溶性和稳定性． 相似文献