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1.
薄膜镀层由于厚度小，难以用通常的磨损方法评估其耐磨性。本文研究了采用精密凹坑研磨仪评价薄膜镀层耐磨性的方法，并对TaN/NbN纳米多层膜和TaN、NbN单层膜进行了磨损实验。结果表明，精密凹坑研磨仪是一种适用于评价薄膜镀层耐磨性的方法。TaN/NbN纳米多层膜有TaN、TbN单层膜更高的耐磨性。 相似文献
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分光计的调整对椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率的影响 总被引：3，自引：0，他引：3
该文用了两个不同的薄膜样品，在两台不同的分光计上，用不同的入射角对薄膜的厚度和折射率进行了测量，并通过比较实验结果，说明了在用椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率的实验中，分光计的调整对实验结果的影响是可以忽略的。 相似文献
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4.
较详细介绍了磁光克尔效应的原理、测量方法以及磁光克尔法的实验装置,也介绍了实验装置中的仪器特点以及磁光克尔法的测量过程。从实验结果可以看出,NiMn多层薄膜有明显的磁滞行为,反映了NiMn多层薄膜的铁磁特性。 相似文献
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采用原位椭圆偏振法测量Mn在Au电极上阴极恒电流沉积过程,分别建立单层膜模型和有效介质膜模型对椭圆偏振测量参数进行拟合。解析结果发现,均方差值(MSE)不是唯一判断的依据,结合扫描电镜结果得到单层膜模型更适合模拟Mn恒电流沉积的动态过程,由单层膜模型可推测Mn的沉积过程为逐层沉积。由于Mn的消光影响,椭圆偏振技术只适合沉积初始阶段的原位测量。 相似文献
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采用溶胶-凝胶法在玻璃表面制得TiO2薄膜,研究以365 nm的紫外光为光源,次甲基兰在TiO2薄膜上的光催化降解效果与光照时间、镀膜层数的关系,以及膜的重复利用次数.实验表明:4层TiO2薄膜在光照4 h时光催化降解率达到95.9%. 相似文献
7.
相干光多层膜系的递推法 总被引：2，自引：0，他引：2
张援 《重庆第二师范学院学报》2003,16(6):24-25
多层薄膜现已被广泛应用，薄膜的光学特性以其反射率和透射率表征．实际所需任何反射率和透射率的光学表面都可以借助镀薄膜的手段获得，这些薄膜通常以高真空蒸发不同介质的方式使其淀积于玻璃或金属基体上．本就入射光为相干光的情况对多层膜系反射率、透射率分别进行计算，得到任意膜系的递推公式，该公式对解决相干光的薄膜问题及其计算具有一定的指导作用． 相似文献
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椭圆偏光法测量薄膜折射率和厚度的研究 总被引：1，自引：0，他引：1
傅晓东 《广东教育学院学报》1997,(2)
本文介绍用椭圆偏光法测量薄膜折射率和薄膜厚度的方法，包括测量单层薄膜和多层薄膜的情况 相似文献
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近十年来国内多层膜巨磁电阻效应研究 总被引：1，自引：0，他引：1
岳玉荣 《连云港师范高等专科学校学报》2003,11(4):33-36
近十年来国内对多层膜巨磁电阻效应的研究主要从金属多层膜、纳米颗粒膜、磁隧道结、氧化物薄膜四个方面展开，侧重研究了多层膜巨磁电阻效应产生的机理、各种膜的结构、影响巨磁电阻大小的因素，同时还引发了多层膜材料在温度大小、磁性(或合金)成份多少和种类、颗粒膜尺寸大小何种情况为最佳的思考。 相似文献
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张真 《邯郸职业技术学院学报》2007,20(2):52-54
在金属薄膜电阻率测量中,电压的准确测量非常重要。系统的研究了影响电压测量结果的各种误差因素,并分析了界面势垒、温差电势对测量结果的具体影响方式,推翻了认为界面势垒、温差电势非常小对测量结果没什么影响的观点。通过磁控溅射法制作了多个Au膜和Cu膜,利用四探针法对其进行了电学测量。实验结果很好地验证了理论分析。 相似文献
11.
利用磁控溅射法在玻璃基片制备TbCo非晶垂直磁化膜,采用样品振动磁强计和磁转矩测量仪测量薄膜的磁性能和磁转矩曲线．结果表明：Cr底层、TbCo磁性层组分、溅射气压、基片偏压、退火温度和TbCo磁性层厚度对薄膜的磁各向异性能都有很大影响．． 相似文献
12.
关贵清 《宁德师专学报(自然科学版)》2005,17(2):154-156
利用光学薄膜的界面反射和透射的光学原理，通过对空气-薄膜-基片所构成的单层膜系统光学特性的分析，在考虑基片吸收的情况下推导出单层膜系统的透射率公式，依据透射率公式可以求解薄膜的光学常数． 相似文献
13.
通过液相沉积法在较低的温度下制备了TiO2/SiO2复合薄膜,利用UV-Vis、XRD和SEM等表征手段对薄膜的透明性、物相和表面形貌进行了表征;并在紫外光照下,通过薄膜对罗丹明B水溶液的光催化降解实验,评价了沉积薄膜的光催化活性.实验结果表明,在室温下制备的液相沉积膜具有较好的光催化活性. 相似文献
14.
王莹 《商丘职业技术学院学报》2009,8(2):58-60
采用射频反应磁控溅射氧化铪钯的方法,在硅衬底成功制备了高介电HfOxNy薄膜．利用原子力显微镜,研究氮的掺入对薄膜表面形貌的影响,结果表明,N的掺杂改善了HfO2薄膜的表面形貌,同时抑制了高温退火过程中表面粗糙度的增加;通过椭圆偏振仪对薄膜的光学特性的研究表明,随退火温度的升高,薄膜的折射率和消光系数都呈上升趋势． 相似文献
15.
基于反射光干涉测量法介绍了单层薄膜生长率实时检测系统的原理,建立了双光束干涉简化模型。进行了LD功率稳定闭环控制电路和探测器前置聚光镜的设计,并利用简化模型对膜厚检测的精度进行定量分析。 相似文献
16.
采用VHF-PECVD技术制备了两个气压系列不同生长阶段的微晶硅薄膜,通过椭圆偏振技术研究了生长过程中微晶硅薄膜表面粗糙度的演化.实验结果表明：沉积气压Pg=70 Pa时,生长指数β=0.22±0.023,对应有限扩散生长模式;Pg=300 Pa时,β=0.81±0.099,其超出标度理论中β最大值为0.5范围,出现异常标度行为,表明：在微晶硅薄膜生长中还要考虑其它粗糙化因素（如阴影作用会增加薄膜表面的粗糙化程度,使生长指数β增大）. 相似文献
17.
介绍了创新性近代物理实验sol--gel法制备AZO薄膜的实验原理和不同Al掺杂量ZnO薄膜的制备过程,用X射线衍射仪和紫外一可见分光光度计测试了AZO薄膜的微结构和光学性质。测试结果表明：随着Al掺杂量的增加,AZO薄膜的结晶度提高,吸收边发生蓝移,光学带Eg从3．279减小3．216eV。实验教学结果显示：将科研项目开设为创新性学生实验,教学效果良好,激发了学生对实验的学习兴趣,培养了学生的创新意识和综合能力。 相似文献
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TiO2纳米膜紫外可见光谱研究 总被引：1，自引：0，他引：1
采用反胶束法制备TiO2纳米溶胶，利用浸渍提拉方法制备TiO2薄膜，通过对膜进行紫外可见光谱分析，探讨了影响TiO2纳米膜厚度和禁带宽的各种因素．实验结果表明：溶液的配比、陈化时间、热处理温度、涂覆次数等都将直接影响二氧化钛薄膜的紫外光谱和禁带宽． 相似文献
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研究了在玻璃表面镀制多层TiO2 膜的技术,对实验条件进行了较深入的探索。获得的十层TiO2 膜结合牢固,测定其结构为锐钛矿型TiO2 ,并对其厚度进行估算。对此膜初步探讨了对某些有机染料的光催化降解反应,为膜的推广应用奠定了基础 相似文献
20.
用SOL－GEL法在平板玻璃上涂覆彩色薄膜，对其技术工艺和制备条件进行了实验研究，利用正硅酸乙酯（TESO）的水解和添加着色剂的方法，获得了五种以上不同色泽的玻璃薄膜，在电炉上加热30分钟，所得薄膜非常牢固，而且色彩艳丽，对已有成膜技术和彩色膜配方进行了验证，并且作了改进，最后对制备过程和实验技术进行了讨论。 相似文献