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真空镀膜技术广泛应用于现代科学技术的很多领域。起初最主要用于光学薄膜。最典型的方法是采用真空蒸发法将成膜材料按设计要求淀积在工件表面从而获得所需的反射、增透、截止、带通、偏振等效果。真空镀膜技术飞速进步,日益完善,真空镀膜技术已从以真空热蒸发法为主要手段的情况发展成包括电子束加热蒸发、溅射、离子镀、激光蒸发以及各类化学气相沉积等许多各领域。以及在制备过程中观察膜生长情况的方法。采用蒸发镀膜,或者采用真空溅射沉积方式,在基底材料的表面形成一层薄膜的设备,间接观察成膜表面薄膜形成过程的方法。模拟技术已作为教学的一部分,仿真应用于实验教学训练。 相似文献
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分析了电子束沉积镍铬合金膜沉积的主要缺点,提出离子辅助电子束法沉积镍铬合金膜的新方法。利用氩离子辅助在微通道板表面沉积了镍铬合金膜,对比和分析了使用氩离子辅助沉积和电子束沉积薄膜的性质(附着力、致密性、表面电阻等)。结果表明,使用250eV的氩离子源辅助沉积的镍铬合金膜附着力好、结构致密、表面电阻低。 相似文献
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《重庆第二师范学院学报》2003,(6)
二维抛物型方程的高精度多重网格解法葛泉斌、田振夫、吴文权在《应用数学》2 0 0 3年第 2期撰文 ,提出了数值求解二维抛物型方程的一种新的高精度加权平均紧致隐格式 ,利用Fourier分析方法证明了该格式是无条件稳定的 ,为了克服传统迭代法在求解隐格式时收敛速度慢的缺陷 ,利用了多重网格加速技术 ,大大加快了迭代收敛速度 ,提高了求解效率 ,数值实验结果验证了方法的精确性和可靠性 .硅基多孔氧化铝膜的整体发光及其化学修饰杨阳、陈慧兰、鲍希茂在《化学学报》2 0 0 3年第 3期撰文指出 ,利用电子束蒸发技术在硅衬底上沉积了 5 0 0nm厚的… 相似文献
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《实验技术与管理》2020,(9)
输液泵挤压重力输液器进行高精度输液过程中,输液器壁厚不均匀性等误差降低了输液精度,在诸如急救、麻醉、化疗类等药物输液中产生不利影响。为此,该文研究了输液器壁厚不均匀性等误差对输液精度的影响。首先,分析引起输液精度变化的影响因素,综合考虑多变量、数据非线性变化等因素,建立了输液器壁厚不均匀性等误差因素对输液精度影响的双对数模型。其次,采用二次元影像仪SMV2010对7种样本输液器进行壁厚偏差参数测量;基于气压装置、输液泵、梅特勒分析天平等精密仪器构建了输液精度试验验证系统,并对7种样本输液器分别进行时间为24 h、流速为1 mL/h的时间-输液精度数据测量。最后,采用试验测试数据对所建模型进行参数辨识、有效性分析。试验结果表明:所建模型可接受检验概率为0.99,具有正确性、有效性,为标定输液器壁厚不均匀性引起的输液误差提供了理论依据。 相似文献
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分别用真空镀膜法、热分解法和电化学法制备了铂金修饰导电玻璃,并以此作为光阴极组装了染料敏化纳晶TiO2太阳能电池.用SEM观察了铂金修饰导电玻璃表面形貌,发现用真空镀膜法制备的铂金膜结构缺陷多、不均匀,存在较多的污点.用热分解法制备的铂金膜具有多孔状结构,但存在较多的有机物分解的残留物.用电镀法制备的铂金膜结构均匀、排列规则、缺陷少、污染少.测定了所制备铂金膜的电阻,结果表明由电镀法所制得的铂金膜电阻最小,用热解法和真空镀膜法制得的铂金膜电阻较大.测定了DSSC电池的光电性能,发现用电镀法制得的铂金膜的催化性能最好,大大提高了DSSC电池的性能;其次是热分解法,由真空镀膜法制备的铂金膜对电池的性能没有多大改善. 相似文献
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宫彦军 《湖南科技学院学报》2014,(10)
朗伯圆锥体脉冲激光二维散射强度像与时间有关,时间对应距离,所以称其为激光二维距离像,激光二维距离像能反映目标的形状、姿态、距离分辨和材料特性,对于目标识别具有重要的意义。文章建立朗伯圆锥体激光二维距离像计算模型,利用此模型给出仿真结果,分析了脉冲宽度、入射方向、圆锥的高度及半锥角对二维距离像的影响。 相似文献
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宁明远 《邵阳学院学报(社会科学版)》2003,2(5):77-78
为提高铁系磷化效果，研究了一种新的常温磷化液，介绍了其配方、配制和磷化工艺，讨论了磷化液组成和工艺条件对磷化膜的影响，并对磷化膜的性能进行了检测．结果表明，该磷化工艺具有磷化液组成简单、污染少、成本低、磷化膜厚度适当、色彩均匀、耐腐蚀强等特点，具有广阔的应用前景． 相似文献
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《实验室研究与探索》2018,(9)
分别用钨坩埚和玻璃碳涂层坩埚蒸镀金膜,采用EDS分析金膜表面黑色颗粒的主要成分。对比金膜表面黑色颗粒分布的密度;根据两种坩埚蒸金膜时的物理学特征不同,研究黑色颗粒产生的机理,解释碳玻璃涂层坩埚蒸金黑色颗粒较多的原因;并利用玻璃碳坩埚采取不同的工艺条件进行对比试验,成功减少了金膜表面的黑色颗粒,为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域蒸镀高质量的金膜提供帮助。 相似文献
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付淑英 《韩山师范学院学报》2010,31(3):35-37,42
以直流反应磁控溅射方法在Si（111）基底上制备薄膜TiN.研究发现：在保持其他工艺参数不变的条件下,溅射气压在0.3～1.3 Pa范围内,薄膜的主要成分是（111）择优取向的立方相TiN.当溅射气压为0.5 Pa时,沉积的薄膜膜层致密均匀,色泽金黄,膜厚为115.8 nm,结晶性能好.在可见光区半透明而在红外光区呈高反射,红外反射率为90%,具有良好的太阳光谱选择性. 相似文献