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金刚石膜具有天然金刚石相拟的优异特性，预计会有十分广阔的应用前景，本文介绍了一种新颖的金刚石膜生长技术－强流电子增强化学气相沉积法，它结合了传统的热丝法和等离子体法各自的优点，成为一种具有较高生长速率，能够制备大面积均匀金刚石膜的技术，对用这种方法制备的金刚石膜进行了喇曼、扫描电镜和Ｘ－Ｒａｙ衍射分析，并对这项技术的优点作了阐述。 相似文献
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金刚石膜是在1987年国家“863”高科技发展计划新材料领域成立后第一批设立的研究项目,从而吹响了在我国从事金刚石膜这一先进材料研究的号角。经过将近十年的努力,金刚石膜的生长技术以及它的 相似文献
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在太空站上,航天员被氨气围绕着。氨气从管子流过,将太空站内部产生的热量排到太空中,它可以使空间站适合人类居住。但是,氨气是有毒的,当氨气的浓度达到百万分之几时,居住在太空站上的航天员就有危险了。所以,当氨气出现泄漏的话,应该让航天员及早知道,以便采取适当的措施。但是,人对氨气的敏感度是很低的,当氨气的浓度达到百万分之五十的时候,人才能感觉到。如果那时再采取措施,就为时太晚了!氨气仅仅是航天飞机和空间站上所产生的大量污染物之一。在乘员舱内的化学污染有许多来源。这些污染物通常以一定的物理形态(即固态、液态或气态)存… 相似文献
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金刚石由于它在力学、热学、光学及电子学方面极其优异的性能和最近它在低压合成方面的成功,近年来它的研究和开发吸引了很多人,形成了一股热潮。但是也遇到了困难,其中最突出的是,对金刚石膜的生长和形核机理还不很清楚,使得人们不能很好地控制膜的生长和质量,来满足实际应用中的各种要求。其次,大面积的异质外延金刚石单晶膜还未能获得,不能实现金刚石膜在高温、高速、高功率和高集成度电子器件上的应用。碳的平衡相图告诉我们,在低温低压生长条件下石墨是稳定相;而只有在高温高压生长条件下,金刚石才是稳定相。所以在低压下用… 相似文献
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影响孕镶齿强度因素有胎体配方、金刚石粒度和浓度、烧结工艺以及金刚石表面状态等诸多因素。本文针对胎体配方、金刚石粒度、金刚石浓度这三个关键因素设计正交试验,以了解影响孕镶齿强度的主要因素和影响规律,结果表明:金刚石浓度是影响孕镶齿强度最重要的因素,其次是金刚石粒度和胎体配方;孕镶齿强度随金刚石浓度的增加而降低,但随金刚石粒度的减小而增加。 相似文献
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利用电子回旋共振等离子体增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)技术,采用三甲基镓(TMGa)和氮气(N2)作为实验反应源,改变不同的沉积温度,在自支持金刚石衬底上沉积制备了高择优取向的GaN薄膜。利用高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)等测试方式,研究了沉积温度的变化对GaN薄膜的结晶性和表面形貌的影响。 相似文献
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为了消除单点金刚石车削(SPDT)后KDP晶体表面留下的周期性小尺度波纹,文章探索采用离子束溅射沉积-刻蚀的方法对车削后KDP晶体进行抛光加工。本文主要分析了平坦化层材料的选择,溅射沉积工艺参数对KDP晶体平坦化层粗糙度的影响,并计算了平坦化层刻蚀速率从而完成了刻蚀转移。利用刻蚀转移成功地将单点金刚石车削后的表面由初始的6.54nmRMS,经过1.76nmRMS的平坦化层,最终刻蚀转移到KDP晶体表面得到1.84nmRMS的光滑表面,实验结果验证了离子束溅射沉积—刻蚀抛光方法的可行性。 相似文献
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氨法脱硝烟气治理工艺在煤电等领域获得大规模推广应用。目前用于评估脱硝后氨排放水平的"氨逃逸"值低,由此计算的氨排放量小,不能反映真实的脱硝过程中的氨排放水平,氨法脱硝产生的氨排放问题被忽视;若用未参与还原反应的氨气浓度,即"氨氮逃逸"值代替"氨逃逸"值,能够真实反映脱硝后的氨排放水平,并可用于脱硝喷氨控制。未参与还原反应的氨气在烟道中能够形成铵盐等氨氮物,氨氮物通过粉煤灰、脱硫废水、雾滴等被携带排出烟道,外排的氨氮物大部分最终形成氨气排至大气。在氮氧化合物排放浓度和"氨氮逃逸"浓度间需要寻求平衡,合理控制"氨氮逃逸"值。 相似文献
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以电化学沉积法在玻碳电极上修饰纳米金颗粒,以修饰后的电极作为工作电极,用于同位镀铋膜法连续测定水中铅的含量。在含铋的溶液中,采用示差脉冲溶出伏安法测定铅离子的浓度,考察电解液pH值、富集电位、富集时间及铋膜浓度对溶出峰的影响,优化出最佳实验条件。在优化的实验条件下,金属离子浓度和峰电流有较好的线性关系,结果表明,本法测定结果准确度,灵敏度较高,重现性良好,可实现水中微量重金属离子的快速测定。 相似文献
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