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1.
椭偏术是一种利用线偏振光经样品反射后转变为椭圆偏振光这一性质以获得样品的光学常数的光谱测量方法.椭偏仪主要用来测量薄膜材料或块体材料的光学参数和厚度的仪器. 相似文献
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样品的倾斜度对椭偏法测量薄膜参数的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
为了研究薄膜样品的倾斜程度对椭偏法测量薄膜参数的影响,运用椭偏法测量原理及Matlab软件,分析与计算了薄膜样品的倾斜度对测量薄膜参数的影响程度,结果表明这种影响是很小的,并通过实验验证了理论分析与实验结果是相符的。为迅速调整好椭偏仪提供了理论和实验依据。 相似文献
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何龙庆 《南京晓庄学院学报》2012,(6):26-30
作者利用光学实验中的常规仪器完成了椭偏法测量薄膜的厚度与折射率,探讨了减小误差,提高测量精度的措施.文中还对文献[2]中某些易于产生困惑之处做了分析并给出了合理的解释. 相似文献
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简述了椭偏法测量非粗糙面薄膜的折射率和厚度的基本原理,推导出粗糙面薄膜的漫反射椭偏方程,给出了C语言计算程序的流程图,并对实例进行计算。 相似文献
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成桢 《西安文理学院学报》2015,(1):60-62,83
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备掺镁氧化锌薄膜,利用SEM(扫描电镜)、XRD(X射线衍射)和椭偏仪等设备研究薄膜的表面形貌、成分、结构和厚度.结果表明,溅射功率没有对薄膜的生长方向产生较大影响,当溅射功率在40 W到100 W之间变化时,随着溅射功率的增大薄膜的结晶状况变好,晶粒尺寸变大,薄膜的厚度增加. 相似文献
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利用磁控溅射技术在玻璃基片上分别沉积ZnOx薄膜、TiO2-y薄膜和TiO2-y/ZnOx双层透明薄膜,改变薄膜沉积过程中的氩气(Ar)和氧气((O2)的比例,获得具有不同氧含量的ZnOx薄膜和TiO2-y薄膜.采用椭偏仪测定所有样品的折射率,仔细研究薄膜中氧含量对折射率的影响.分别选择具有较大的折射率TiO2-y薄膜和具有较小的折射率ZnOx薄膜的生长条件,制备TiO2-y/ZnOx双层薄膜,获得光密媒质/光疏媒质双层结构,并观察到He-Ne激光从ZnOx薄膜入射到TiO2-y/ZnOx界面上发生的全反射现象.研究成果适用于大学生物理实验中的研究型实验或大学创新实验. 相似文献
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黎锡强 《上海大学学报(英文版)》2000,4(2)
1 Introduction Thesputteringtechniquewellsuitsthegrowthofcompoundsandalloys ,whoseelementalconstituentshavesignificantlydifferentmelting pointsandvaporpressures.AconsiderableamountofworksaboutrfsputterdepositionofbinaryⅢ Ⅴcompoundfilmshasbeenpublished[1~… 相似文献
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反射式RAP型椭圆偏振光谱仪及其应用 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了椭圆偏振测量的基本物理原理。基于目前教学型椭圆偏振光谱仪多为单波长消光式,而且自动化程度不高,测量误差较大等现状,提出了一种反射式同时旋转起偏器和检偏器的动态光度式全自动椭圆偏振光谱仪,包括其工作原理与系统结构,最后,阐述了该光谱仪的实验应用结果。实验系统结构简单、集成度高、成本低、精度高、易于操作。 相似文献
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Xi-qiang Li 《上海大学学报(英文版)》2000,4(2):163-166
Single crystal Ga
x
In1−x
As films have grown up on GaAs(100) substrate at 375°C and on InP(100) substrate at 390°C, respectively, by the method of
rf-sputtering with using undoped GalnAs polycrystal as target. However, on Si(100) or Si(111) substrates at 260–390°C, even
at 465°C, only polycrystalline films were obtained. In addition, the structure, composition, electrical characteristic and
optical properties of the Ga
x
In1−x
As films were investigated using X-ray diffraction (XRD), reflection of high energy electron diffraction (RHEED), energy dispersion
analyzer of X-ray (EDAX), Hall measurements and spectroscopic ellipsometry. 相似文献
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关贵清 《宁德师专学报(自然科学版)》2005,17(2):154-156
利用光学薄膜的界面反射和透射的光学原理,通过对空气-薄膜-基片所构成的单层膜系统光学特性的分析,在考虑基片吸收的情况下推导出单层膜系统的透射率公式,依据透射率公式可以求解薄膜的光学常数. 相似文献
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采用VHF-PECVD技术制备了两个气压系列不同生长阶段的微晶硅薄膜,通过椭圆偏振技术研究了生长过程中微晶硅薄膜表面粗糙度的演化.实验结果表明:沉积气压Pg=70 Pa时,生长指数β=0.22±0.023,对应有限扩散生长模式;Pg=300 Pa时,β=0.81±0.099,其超出标度理论中β最大值为0.5范围,出现异常标度行为,表明:在微晶硅薄膜生长中还要考虑其它粗糙化因素(如阴影作用会增加薄膜表面的粗糙化程度,使生长指数β增大). 相似文献
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激光测距观察仪不仅能观察远距离目标,还能利用激光测距原理测出目标与观察者之间的距离。为了实现这两大功能,必须在激光测距观察仪的光学系统中制备大量的光学薄膜。根据光学薄膜的用途不同,光学系统中的光学薄膜主要有双波段增透膜、干涉截止滤光膜、可见光宽带增透膜和红外点增透膜等。 相似文献
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薄膜干涉是一种常见、有用的干涉效应。现行大学物理教材中只讨论了光场的强度效应而忽略了频率效应。该文从相位差与光程差的关系出发,得到了干涉场中光强随光波频率(波长)的分布,结合具体实例,给出了归一化的光强(反射光与透射光)随波长变化的关系曲线。 相似文献