冷喷银涂层在多晶硅生产中的应用研究     

张宝顺  王刚  宗冰  任长春  王志权  王体虎 《青海科技》2020,27(3)

主要介绍冷喷银涂层在高纯多晶硅低消耗生产技术中的应用,阐述多晶硅生产用西门子法钟罩式化学气相沉积反应器的能量损失和银涂层节能机理,分析冷喷银涂层对红外反射、反应器能量消耗及多晶硅生长的影响,总结冷喷银涂层在应用中存在的问题。以24对棒多晶硅化学气相沉积反应器为例,当其内壁含有冷喷银涂层时,与非喷涂反应器相比,可至少降低5%的能量消耗,最高增加11.2%的多晶硅产量。  相似文献   

四氯化硅工业应用进展     

叶发萍  解玉龙  宗冰  王体虎 《青海科技》2020,27(5)

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低温等离子体技术及其应用研究     

张宝顺  肖建忠  鲍守珍  宗冰  魏东亮  安军林  王体虎 《青海科技》2018,(2)

等离子体是由自由电子、离子和中性粒子组成的非束缚态宏观体系,是除去固、液及气态外,物质存在的第四态。按照热平衡状态,等离子体可以分为完全热力学平衡等离子体、局部热力学平衡等离子体以及非热力学平衡等离子体。非热力学平衡等离子体(低温等离子体)由于产生装置简单、容易制造、宏观温度低等优势,近年来成为各领域广泛研究的热点。本文重点论述低温等离子体技术在多晶硅行业的应用现状及前景,并结合青藏高原特点,提出低温等离子体技术在青藏高原环保方面的应用。  相似文献   

低温等离子体在多晶硅行业的应用研究     

丁小海  张宝顺  肖建忠  郭光伟  庞巧华  王体虎 《青海科技》2018,(2)

在化学合成、材料制备等技术领域,低温等离子体因其独特的化学活性而被广泛地研究及应用。本文从低温等离子体发生机理出发,介绍了几种不同的等离子体发生器放电模式,结合多晶硅生产中氯硅烷制备工序,采用介质阻挡放电(DBD)附加催化剂,结果表明:在频率100kHz、5kV电压激励下,H2/STC摩尔比10∶1,反应气以5.0L/min流经反应器,STC一次转换效率达到5.32%,在此基础上,提出低温等离子体在多晶硅行业的应用前景。  相似文献