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本文以直流磁控溅射法制备的Au/Nicr薄膜为研究对象,采用扫描电镜(SEM)和扫描俄歇探针(SAM)分析了真空和大气环境下350℃20min热处理后,Au膜表面结构及化学组份的变化。  相似文献   
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