| 我国第一台激光分子束外延设备研制成功 |
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| 引用本文： | 杨国桢,吕惠宾.我国第一台激光分子束外延设备研制成功[J].中国科学基金,1998,12(2):137-140. |
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| 作者姓名： | 杨国桢 吕惠宾 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院物理研究所光物理实验室,中国科学院凝聚态物理中心,北京,100080
2. 中国科学院物理研究所光物理实验室,北京,100080 |
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| 摘 要： | 激光分子束外延是近几年才出现的一种新型高精密制膜技术,它集普通脉冲激光沉积(PLD)的特点和传统分子束外延(MBE)的超高真空精确控制原子尺度外延生长的原位实时监控为一体,不仅可以生长通常的半导体超晶格材料,尤其适于制备多元素、高熔点、复杂层状结构,如超导体、光学晶体、铁电体、压电体、铁磁体以及有机高分子材料等薄膜,同时还能进行其相应的激光与物质相互作用和成膜过程的物理、化学等方面的基础研究。因此,激光分子束外延具有重要的学术意义和广泛的应用前景。
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| 关 键 词： | 激光分子束外延，薄膜和超晶格，原位实时监控 |
THE FIRST LASER MOLECULAR BEAM EPITAXY APPARATUS IN CHINA |
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| YANG Guozhen,LU Huibin.THE FIRST LASER MOLECULAR BEAM EPITAXY APPARATUS IN CHINA[J].Bulletin of National Natural Science Foundation of China,1998,12(2):137-140. |
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| Authors: | YANG Guozhen LU Huibin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | |
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