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| 中高温太阳能选择性吸收多层膜的制备与光学性能的研究 | |
| 引用本文： | 次仁拉姆.中高温太阳能选择性吸收多层膜的制备与光学性能的研究[J].西藏科技,2010(10):40-43. |
| 作者姓名： | 次仁拉姆 |
| 作者单位： | 中国建设银行拉萨北京中路支行,西藏拉萨850001 |
| 摘 要： | 采用双干涉吸收膜系结构设计在不锈钢基片（SS）和铜基底表面制备了MoSi2-/MoSi0-Al2O3（高体积分数金属填充因子层（HMVF））//MoSi2-Al2O3（低体积分数金属填充因子层（HMVF））/Al2O3选择性吸收多层膜,通过摸索不同的基底、各层厚度匹配,不同体积分数对选择吸收的影响及制备工艺优化获得最佳的太阳能吸收率为0.94,红外发射率为0.08。该膜层经500℃真空退火后吸收率和发射率没有明显变化,表明陔涂层在该温度下热稳定性良好。 |
| 关 键 词： | 太阳选择性吸收涂层 MoSi2--Al2O3 磁控溅射 真空退火 微观结构 光学性质 |
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