用正电子研究镍在γ-Al_2O_3表面上的分散状态 |
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引用本文: | 毕翱翔,康婷霞,朱俊.用正电子研究镍在γ-Al_2O_3表面上的分散状态[J].中国科技信息,2010(4):32-34. |
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作者姓名: | 毕翱翔 康婷霞 朱俊 |
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作者单位: | 武汉大学物理科学与技术学院,430072 |
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摘 要: | 用浸渍法制备了一系列不同担载量的负载型镍催化剂,并经不同温度下烘烤1小时后得到Ni/γ-Al2O3样品。分别用热分析(DTA/TG)、正电子湮没谱学等方法来表征镍在多孔氧化铝(γ-Al2O3)表面的分散特性。实验表明,在浸渍法制得的样品中,镍均匀分散于载体表面,在烘烤温度达到320℃时获得活性;在更高的烘烤温度下镍会向体内中扩散,使有效活性减少。
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关 键 词: | 浸渍 镍 γ-Al2O3 正电子湮没谱学 |
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