| 倒棱工艺对激光角反射器衍射特性的影响 |
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| 引用本文： | 石岩,周辉,文翔.倒棱工艺对激光角反射器衍射特性的影响[J].实验室研究与探索,2013,32(8):41-46. |
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| 作者姓名： | 石岩 周辉 文翔 |
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| 作者单位： | 1. 武汉大学电子信息学院,湖北武汉,430072
2. 赵李桥中学,湖北赤壁,437300 |
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| 基金项目： | 武汉大学设备处项目资助 |
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| 摘 要： | 基于激光角反射器的几何结构模型及倒棱方式,采用光线的折反射定律,推导了在倒棱条件下激光角反射器有效衍射区域的分布模型,并结合激光角反射器位相分布及衍射理论,建立了在不同光束入射角下,棱宽对角激光反射器近场和远场衍射特性影响的数学模型。采用数值仿真的方法分析了棱宽对综合发散角为5"的激光角反射器衍射强度的影响规律。结果表明,随着棱宽的增加,激光角反射器近场衍射的总强度及远场衍射图样中心点强度都出现了不同程度的下降。在整个光束入射角范围内,若棱宽不超过激光角反射器半径的5‰时,近场衍射总强度的下降程度小于1%,远场衍射图样中心点强度的绝对下降量为1.2%。当棱宽接近激光角反射器半径的5%时,近场衍射总强度下降程度达到9.3%,而远场衍射图样中心强度的绝对下降量为12.0%。
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| 关 键 词： | 激光角反射器 倒棱 有效衍射区域 衍射特性 |
Study on Influence of Chamfering Process to Diffraction Property for Laser Retroreflector |
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| SHI Yan
,
ZHOU Hui
,
WEN Xiang.Study on Influence of Chamfering Process to Diffraction Property for Laser Retroreflector[J].Laboratory Research and Exploration,2013,32(8):41-46. |
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| Authors: | SHI Yan ZHOU Hui WEN Xiang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | laser retroreflector chamfer effective diffraction region diffraction property |
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