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| 基于PLC的Low-E玻璃磁控溅射真空控制系统 | |
| 引用本文： | 张申宇,罗松松,王程.基于PLC的Low-E玻璃磁控溅射真空控制系统[J].内江科技,2019(2). |
| 作者姓名： | 张申宇 罗松松 王程 |
| 作者单位： | 安徽理工大学机械工程学院;凯盛重工有限公司;中国建材国际工程有限公司 |
| 摘 要： | 针对Low-E玻璃在磁控溅射过程中镀膜腔体真空度小于5×10~(-6)mbar的要求,本文提出一种基于PLC控制泵组运行策略的抽真空方法,采用S7-400PLC作为控制系统主体,Wincc平台作为过程监视系统,真空规对腔体内的真空度信号进行采集并反馈到PLC内部,控制泵组按一定顺序启动。实际应用表明该控制系统能够达到生产Low-E玻璃所需真空环境的标准,并且运行稳定,保障了磁控溅射区域真空度的稳定性。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |