氧气流量对磁控溅射制备AZO薄膜特性的影响 |
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引用本文: | 范丽琴,赖发春.氧气流量对磁控溅射制备AZO薄膜特性的影响[J].大观周刊,2012(21):67-69. |
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作者姓名: | 范丽琴 赖发春 |
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作者单位: | [1]华侨大学厦门工学院,福建厦门361021 [2]福建师范大学物理与光电信息科技学院,福建厦门361021 |
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摘 要: | 利用直流磁控溅射方法在BK-7基片上制备掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜。研究氧气流量对薄膜电学和光学性质的影响,分析结构和光电学性质改变的机理。X射线衍射的结果发现,氧气浓度为0.5%时制备的薄膜的衍射峰最强.且出现了新的(102)和(110)衍射峰。实验结果表明,随着氧气流量的增加,电阻率(p)先减小后增大,在氧气浓度为0.5%时获得最低电阻1.5×10^-3。所有样品在可见光区的平均光学透过率都在85%左右.在氧气浓度增到1.5%时可见光区的平均透射率达87%。
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关 键 词: | AZO 薄膜 磁控溅射 光电学性质 |
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