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Co掺杂的ZnO基稀磁半导体薄膜的制备
引用本文:李博睿,官文杰.Co掺杂的ZnO基稀磁半导体薄膜的制备[J].大众科技,2010(8):108-109,96.
作者姓名:李博睿  官文杰
作者单位:武汉大学物理学院,湖北武汉,430072
摘    要:采用PLD方法制备了5at.%Co掺杂的ZnO0.95 Co0.05O薄膜,以及Co,Al共掺杂的样品,并对其进行了电学及磁学性质测量,发现ZnO:Co薄膜具有室温铁磁性,同时有着优异的透光特性及良好的导电性,有着集成磁光电特性与一体的潜质。Co,Al共掺杂的样品饱和磁矩有较为明显的增强,说明样品的铁磁性可能来源于载流子浓度的增加。

关 键 词:稀磁半导体  ZnO  载流子浓度
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