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专利计量学的研究现状与发展态势
引用本文:乐思诗,叶鹰.专利计量学的研究现状与发展态势[J].图书与情报,2009(6).
作者姓名:乐思诗  叶鹰
作者单位:浙江大学信息资源管理研究所,浙江,杭州,310027
基金项目:国家自然科学基金项日"h-指数和类h-指数的机理分析与实证研究" 
摘    要:通过综述国内外专利计量学的研究进展,从指标研究和应用研究两方面简要阐述了专利计量学的发展态势.在综述现有专利计量指标基础上,提出借鉴新兴的h指数研究发展新型专利计量指标是一个值得努力的方向;在概括不同角度的应用研究基础上,提出通过专利计量指标建立竞争力测度进而实现竞争情报分析的新思路.

关 键 词:专利计量学  专利计量  专利分析

The Status Quo and Mission of Patentometrics
Le Sishi YeYing.The Status Quo and Mission of Patentometrics[J].Library and Information,2009(6).
Authors:Le Sishi YeYing
Institution:Le Sishi YeYing(Information Resources Management Institute,Zhejiang University,Hangzhou,Zhejiang,310027)
Abstract:Two sub-fields in patentometrics are reviewed as indicator and application studies.In indicator studies,the new type patentometric indicator based on h-index is a valuable direction.In application studies,the competitive measure for competitive information analysis via the patentometric indicators becomes a new way.
Keywords:Patentometrics  patent bibliometrics  patent analysis  
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