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| AAO模板制备中高纯Al电解抛光工艺的研究 | |
| 引用本文： | 孙虹,潘羿诺,冀婷,李国辉,崔艳霞.AAO模板制备中高纯Al电解抛光工艺的研究[J].科技通报,2023(12):1-4. |
| 作者姓名： | 孙虹 潘羿诺 冀婷 李国辉 崔艳霞 |
| 作者单位： | 1. 太原理工大学物理学院;2. 太原理工大学光电工程学院 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金项目(U21A20496,61922060)； |
| 摘 要： | 阳极氧化铝模板以其低成本、高通量、柔性和结构可控性等特点已被用于制备纳米结构材料和光子器件等模板。为促进规则多孔的形成和控制所需的性能，高纯Al片表面的预处理是必需的。为此本文研究了高纯Al片的抛光条件，将面积相近的阳极Al片与阴极碳板以相互平行的方式垂直放置于高氯酸与乙醇的体积比为1∶7抛光液中。在电解抛光过程中，当外加电压增至9 V以上时，Al片表面开始形成阳极膜，Al片面积越大该阳极膜所受重力势能作用越显著，致使在完成形成均匀阳极膜拐点处对应的电流密度值随Al片面积的增加而增加，且同一Al片面积具有较佳拐点值，以获得理想的表面光洁度。 |
| 关 键 词： | 电解抛光 纳米多孔阳极氧化铝(AAO) 高纯Al |