|
|||||
|
|
| 0.9Pb(Sc_(0.5)Ta_(0.5))O_3-0.1PbTiO_3/PbTiO_3多层薄膜制备及铁电性研究 | |
| 引用本文： | 李雪冬,刘洪,吴家刚,刘刚,肖定全,朱建国.0.9Pb(Sc_(0.5)Ta_(0.5))O_3-0.1PbTiO_3/PbTiO_3多层薄膜制备及铁电性研究[J].绵阳师范学院学报,2015(5):26-29. |
| 作者姓名： | 李雪冬 刘洪 吴家刚 刘刚 肖定全 朱建国 |
| 作者单位： | 1. 绵阳师范学院物理与电子工程学院，四川绵阳 621000; 四川大学材料科学与工程学院，四川成都 610064 2. 四川大学材料科学与工程学院,四川成都,610064 3. 绵阳师范学院物理与电子工程学院,四川绵阳,621000 |
| 基金项目： | 绵阳师范学院科研课题项目 |
| 摘 要： | 以LaNiO3做缓冲层,用射频磁控溅射法在SiO2/Si(100)衬底上制备出0.9Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.1PbTiO3/PbTiO3铁电多层薄膜.采用两步法在峰值温度750℃对薄膜进行退火.通过电滞回线和漏电流曲线对薄膜的铁电性能进行了测量.研究发现,原位生长的薄膜已经具备了较好的铁电性,这为(1-x)Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-x0.1PbTiO3薄膜的低温制备提供了可能性.经过退火后,薄膜的铁电性略有下降,高温下铅的损失可以很好的解释这一现象. |
| 关 键 词： | 多层薄膜 铁电性 电滞回线 退火 |
Preparation and Ferroelectric Properties of 0. 9Pb(Sc0. 5 Ta0. 5)O3 - 0. 1PbTiO3/PbTiO3 Multilayer Thin Films |
|
| LI Xue-dong,LIU Hong,WU Jia-gang,LIU Gang,XIAO Ding-quan,ZHU Jian-guo.Preparation and Ferroelectric Properties of 0. 9Pb(Sc0. 5 Ta0. 5)O3 - 0. 1PbTiO3/PbTiO3 Multilayer Thin Films[J].Journal of Mianyang Normal University,2015(5):26-29. | |
| Authors: | LI Xue-dong LIU Hong WU Jia-gang LIU Gang XIAO Ding-quan ZHU Jian-guo |
| Abstract: | |
| Keywords: | multilayer thin films ferroelectric properties P - E loops annealing |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |