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| 光学邻近校正技术专利现状 | |
| 引用本文： | 马泽宇,刘振玲,张思秘.光学邻近校正技术专利现状[J].中国科技信息,2024(3):46-49. |
| 作者姓名： | 马泽宇 刘振玲 张思秘 |
| 作者单位： | 国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心 |
| 摘 要： | <正>本文针对OPC技术，对相关专利申请的申请量趋势、地域分布情况、全球主要申请人排名、中美转让的专利申请趋势和技术发展路线等进行了梳理与分析，指出中国主要芯片制造企业在OPC技术方面进行了大量的专利布局，但其OPC技术服务主要来自国外，存在供应链相对单一的风险。中国OPC技术服务商的专利申请量较低，面临技术实力相对落后、专利布局相对薄弱和市场份额被严重挤压的严峻挑战。通过加强与具有技术优势的高校和科研院所开展研发合作并积极借鉴国外先进的专利运作经验，将有利于中国创新主体快速增强技术实力和开展专利布局。面临如何兼顾高处理精度和低处理时间的挑战，将AI技术的引入OPC为该领域的技术突破带来了希望。本文数据翔实，观点明确，在OPC技术领域具有借鉴意义。 |