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玻璃基片上钽薄膜屈曲结构的边界效应研究
引用本文:陈小军,余森江,焦志伟,陈苗根.玻璃基片上钽薄膜屈曲结构的边界效应研究[J].台州学院学报,2012,34(6).
作者姓名:陈小军  余森江  焦志伟  陈苗根
作者单位:中国计量学院 物理系,浙江杭州,310018
基金项目:浙江省大学生科技创新项目,国家自然科学基金,浙江省自然科学基金
摘    要:利用直流磁控溅射方法在玻璃基片上沉积了金属钽薄膜,研究了边界效应对薄膜屈曲结构的影响.结果表明:制备态的钽薄膜包含较大的残余压应力,促使薄膜与基片脱层而形成屈曲结构;屈曲结构在薄膜边界处成核生长,并逐渐扩展到薄膜内部区域;在薄膜边界处,屈曲结构呈垂直边界的平行直线状条纹结构,随着距离的增加,屈曲结构逐渐分叉形成无规网格结构或电话线结构.利用薄膜的单轴应力和等双轴应力模型,对屈曲结构边界处的形貌特征进行了深入分析.

关 键 词:钽薄膜  屈曲  内应力  边界效应

Edge Effect of Buckling Patterns in Ta films Deposited on Glass Substrates
CHEN Xiao-Jun , YU Sen-Jiang , JIAO Zhi-Wei , CHEN Miao-Gen.Edge Effect of Buckling Patterns in Ta films Deposited on Glass Substrates[J].Journal of Taizhou University,2012,34(6).
Authors:CHEN Xiao-Jun  YU Sen-Jiang  JIAO Zhi-Wei  CHEN Miao-Gen
Abstract:
Keywords:
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