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硅基纳米结构的发光
引用本文:袁放成.硅基纳米结构的发光[J].泉州师范学院学报,2005,23(4):30-33.
作者姓名:袁放成
作者单位:泉州师范学院,物理系,福建,泉州,362000
基金项目:福建省教育厅项目(JB02188)
摘    要:测量了掺Er氧化硅、掺Er富硅氧化硅、掺Er氮化硅和掺Er富硅氮化硅这四种薄膜室温下的光致发光谱,这四种薄膜在光激发下都具有Er^3+离子的1.54μm峰位,Er^3+离子1.54μm的峰强度与薄膜的退火温度有关,这些薄膜都分别在600℃、700℃、800℃、900℃、1000℃、1100℃的温度下同时退火,发现两种富硅薄膜的强度比不富硅薄膜的1.54μm峰强度要强。

关 键 词:发光  纳米结构  纳米硅粒
文章编号:1009-8224(2005)04-0030-04
收稿时间:06 13 2005 12:00AM
修稿时间:2005年6月13日

Luminescence from Nanoscale Silicon-based
YUAN Fang-cheng.Luminescence from Nanoscale Silicon-based[J].Journal of Quanzhou Normal College,2005,23(4):30-33.
Authors:YUAN Fang-cheng
Institution:Department of Physies,Quanzhou Normal University, Fujian 362000,China
Abstract:
Keywords:luminescence  nanostructures  silicon nanoparticles
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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