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纳米碳化硅半导体材料光致发光特性的研究进展
引用本文:孙运涛.纳米碳化硅半导体材料光致发光特性的研究进展[J].嘉应学院学报,2004,22(6):26-28.
作者姓名:孙运涛
作者单位:嘉应学院物理系,广东,梅州,514015
摘    要:概述了纳米碳化硅半导体材料,如采用各种成膜技术在硅衬底上制备的纳米碳化硅(nc-SiC:H)膜,镶嵌在各种介质如(α-SiC:H、SiO2或ZSM-5中的纳米晶碳化硅的光致发光特性及其最近研究进展

关 键 词:纳米碳化硅  光致发光  发光机制
文章编号:1006-642X(2004)06-0026-03
修稿时间:2004年8月7日

Recent Advances in Photoluminescence of Nanometer Silicon Carbide Semiconductor Materials
SUN Yun-tao.Recent Advances in Photoluminescence of Nanometer Silicon Carbide Semiconductor Materials[J].Journal of Jiaying University,2004,22(6):26-28.
Authors:SUN Yun-tao
Abstract:This review describes recent advances in photoluminescence of nanometer silicon carbide semiconductor materials,such as nc-SiC:H films prepared by all kinds of films preparation technology and nc-SiC embedded in α-SiC:H?SiO_2 or ZSM-5.
Keywords:SiC  photoluminescence  light-emitting mechanism
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