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| 直流热阴极法在硬质合金表面生长金刚石膜的研究 | |
| 引用本文： | 尹龙承,付东辉,李鹏.直流热阴极法在硬质合金表面生长金刚石膜的研究[J].黑龙江科技信息,2011(30):44-44. |
| 作者姓名： | 尹龙承 付东辉 李鹏 |
| 作者单位： | 牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室,黑龙江牡丹江,157012 |
| 基金项目： | 基金项目:牡丹江市科学技术攻关项目，牡丹江师范学院科学技术研究项目，牡丹江市科学技术局攻关项目 |
| 摘 要： | 直流等离子体化学气相沉积法（DC—PCVD）具有生长速率快、成膜面积大、成膜质量高、成本低等优点，是一项非常有前景的工业合成金刚石膜技术。本文采用DC—PCVD法，在硬质合金YG6基体上沉积了金刚石薄膜。通过断面形貌观察，金刚石膜厚3．35μm，平均生长速率达到0．56μm／h。金刚石膜与硬质合金基底结合紧密。Raman光谱表明，DC—PCVD法生长的金刚石膜sp2含量极低，说明金刚石膜品质较高。 |
| 关 键 词： | 金刚石薄膜 DC—PCVD 硬质合金 |
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