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学生实验真空镀膜机的设计与制作 总被引：2，自引：0，他引：2
随着科学技术的不断发展,薄膜材料在光学、电子技术、原子物理、半导体技术、宇宙技术等领域得到了日益广泛的应用,推动了薄膜制备技术的蓬勃发展,许多新型的镀膜方法与工艺也不断涌现。真空蒸发镀膜始终是一种重要而基本的薄膜制备方法。很多学校把真空镀膜技术进行了推广,要求在校的理、工科学生根据自己所学专业来了解掌握真空镀膜技术。但是现在市场上购买一台普通型真空镀膜机一般需要5万元左右,这样,经费不足,将阻碍了实验的开出。根据这一现实情况,我们设计并制作了一台筒易型真空镀膜机,仪器成本降低为2万元左右。同时,该仪器设… 相似文献
2.
环形锥面蒸发源模型对沉积膜厚均匀性计算有局限性。针对电子束蒸发镀膜挖坑效应设计一种新的小圆锥体蒸发模型,提出一种新的公式计算沉积膜厚均匀性。采用相同工艺条件,不同时间蒸镀二氧化硅薄膜,验证了小圆锥体模型计算电子束蒸发挖坑膜厚均匀性准确可靠,并成功解释了随着蒸发时间的延长,均匀性变差的原因。该方法可以用于实验教学,真空镀膜工艺以及真空镀膜设备生产领域。 相似文献
3.
研究制备了一种新型玻璃瓶用紫外光固化真空镀膜底漆,探讨了硅烷偶联剂的种类、主体树脂的种类和用量、紫外光固化能量和镀铝层厚度对香水玻璃瓶用紫外光固化真空镀膜底漆附着力、耐水煮性、耐高温高湿性能的影响。结果表明：硅烷偶联剂6011对改善附着力和耐恒温恒湿性能效果显著;在主体树脂中,当复合主体树脂DR-U311和DR-E615的质量比为1∶2时,涂膜表现出良好的附着力及耐水煮性能;当底漆固化能量在600～800mJ/cm2范围时,涂膜外观无异常、耐水煮性能佳;镀膜铝层厚度在30～40nm之间时,铝层洁白亮度高且漆膜耐水煮性能优异。 相似文献
4.
阐述了采用nAERO辅助气溶胶薄膜沉积技术制备TCO镀膜玻璃时,在TCO玻璃生产线上出现的玻璃连续炸裂的问题,通过分析和多次对加热炉温度曲线、气浮台高度、镀膜腔室尾气排放量、加热炉与镀膜腔室间隙等工艺及设备调整,对可能存在的原因逐一排查,最终确定炸裂的主要因素,并加以改进,使离线式TCO镀膜玻璃炸裂问题得到了最终解决。 相似文献
5.
针对MD-450C型的真空镀膜机不能完成浅PN结的后期工艺处理问题,文章介绍了真空镀膜机的改造以及利用改造后的设备进行高低结的真空制备.通过对四电极霍尔效应样品的桥式等效电路的讨论,得出了浅PN结两侧导电类型同时测量的快速方法. 相似文献
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真空镀膜技术广泛应用于现代科学技术的很多领域。起初最主要用于光学薄膜。最典型的方法是采用真空蒸发法将成膜材料按设计要求淀积在工件表面从而获得所需的反射、增透、截止、带通、偏振等效果。真空镀膜技术飞速进步,日益完善,真空镀膜技术已从以真空热蒸发法为主要手段的情况发展成包括电子束加热蒸发、溅射、离子镀、激光蒸发以及各类化学气相沉积等许多各领域。以及在制备过程中观察膜生长情况的方法。采用蒸发镀膜,或者采用真空溅射沉积方式,在基底材料的表面形成一层薄膜的设备,间接观察成膜表面薄膜形成过程的方法。模拟技术已作为教学的一部分,仿真应用于实验教学训练。 相似文献
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戴国钧 《实验室研究与探索》2004,23(4):19-20,30
采用磁控溅射镀膜方法,在锂铁氧体材料表面,制备了Cu-Ti复合金属波导膜系。本文简单介绍了设备的改造特点,对整个工艺过程进行了分析研究,对制备的Cu-Ti复合金属波导膜系进行了性能测试,结果表明,用该工艺所制备的波导膜系性能指标达到微波器件的要求。 相似文献
8.
本文对镀膜托帕石的工艺技术及发展现状进行了阐述,分析了镀膜托帕石产生颜色的主要原因为膜层成分,并指出热处理会对镀膜托帕石的颜色产生影响.镀膜托帕石膜层与宝石基体之间的反应机制为"扩散机制"或"化学键结合机制".本文还对镀膜托帕石的表面鉴定特征进行了初步描述. 相似文献
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真空蒸发镀膜膜厚影响因素的实验研究 总被引：2，自引：0，他引：2
对蒸发镀膜过程中影响镀膜厚度的因素进行了实验分析，并运用CurveExpert软件对实验曲线进行了拟合，从而最终找到了这些因素对镀膜厚度的影响规律． 相似文献
10.
《实验室研究与探索》2018,(9)
分别用钨坩埚和玻璃碳涂层坩埚蒸镀金膜,采用EDS分析金膜表面黑色颗粒的主要成分。对比金膜表面黑色颗粒分布的密度;根据两种坩埚蒸金膜时的物理学特征不同,研究黑色颗粒产生的机理,解释碳玻璃涂层坩埚蒸金黑色颗粒较多的原因;并利用玻璃碳坩埚采取不同的工艺条件进行对比试验,成功减少了金膜表面的黑色颗粒,为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域蒸镀高质量的金膜提供帮助。 相似文献