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ZnO是Ⅱ-Ⅵ族宽禁带半导体材料,与GaN相比,具有宽禁带、激子结合能大等优点,是一种极具开发潜力的新型半导体材料.该文对目前国内外经常采用的ZnO薄膜的主要物理制备方法和化学制备方法进行了详细的介绍,包括磁控溅射法、脉冲激光沉积法、金属有机物化学气相沉积法、溶胶凝胶法等,并对几种方法各自的优缺点做出综合研究和归纳总结. 相似文献
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物理光学课程隶属我校物理学院光学课程体系,是光学课程开设后继课光学实验后的第二门后继课程.在光学课程建设及光学教学团队建设的过程中,教学团队结合我校的学生实际和国内外物理光学课程的教学现状,从“以学生为本”的教学理念出发,对物理光学课程开展了改革实践.该文从教学思想、教学内容设置、教学手段和方法等几个方面简要介绍探索与实践的具体措施. 相似文献
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采用溶胶凝胶(sol-gel)法,在普通载玻片上成功制备ZnO薄膜,对于不同退火温度样品采用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计(UVS)及光致荧光光谱(PL)对样品的结构、形貌和光学特性进行表征.XRD谱表明在300℃、400℃、500℃退火处理的样品都有较好的c轴择优取向,而且随着退火温度的升高择优取向明显改善.透射谱中能观察到明显的ZnO吸收边.用AFM观察到的样品表面形貌表明,退火温度提高使样品表面更加平整,同时粒径变大.PL谱中在380nm附近可观察到明显发光峰. 相似文献
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针对光学材料亚表面损伤的截面显微法检测进行了深入研究.介绍了截面显微法的基本原理以及样品制备和检测工艺流程,并对检测结果进行了分析,得出了亚表面裂纹深度与磨料粒度之间的比例关系. 相似文献
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采用溶胶凝胶(sol-gel)法,在普通载玻片和Si-SiO2衬底上成功制备Ce掺杂ZnO薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)及光致荧光光谱(PL)对样品的结构、形貌和光学特性进行表征.XRD谱表明大部分样品都有较好的c轴择优取向,而且随着退火温度的升高择优取向明显改善.PL谱中在390nm附近可观察到明显发光峰,退火温度升高能够提高本征发光峰强度,抑制可见光区发光强度.用AFM观察到的样品表面形貌表明,退火温度提高使样品表面更加平整,同时粒径变大. 相似文献
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亚表面损伤的精确表征有助于全面掌握光学元件研磨后的亚表面损伤特征,是确定后续抛光时间和加工程序、提高研磨加工效率的切实依据.该文首先从目前比较常见的几种亚表面损伤测试技术出发,简要阐述各种测试技术的实验原理,综合实验结果分析了各种方法对亚表面损伤表征的研究状况,并对截面法在K9光学玻璃亚表面损伤方面的应用进行了实验对比研究,对比分析了研磨粒径与裂纹最大深度间的关系. 相似文献
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该文用磁控溅射法在蓝宝石衬底上生长了ZnO薄膜,所得薄膜采用X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）、紫外可见分光光度计（UVS）、光致荧光光谱（PL）对样品的结构、形貌和发光特性进行表征.结果表明掺杂后的ZnO薄膜仍为六角纤锌矿结构,磁控溅射镀膜样品的透射边随着退火温度的提高发生蓝移又红移现象,所有样品都有比较好的发光性能;900℃溅射镀膜样品的表面形貌平整度较好,粒子分布均匀. 相似文献
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Z扫描技术具有实验装置简单、操作方便和灵敏度高等优点而被广泛应用于材料的非线性光学特性研究．该文介绍了激光Z扫描技术的基本原理,并针对影响激光Z扫描测量精度的八个因素进行分析,提出相应的提高Z扫描精度的方法． 相似文献
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采用溶胶凝胶工艺,分别在普通载玻片和Si片上生长了不同浓度的Er掺杂ZnO薄膜,稀土Er3＋与Zn2＋的摩尔比分别为1%、2%、3%,所得薄膜采用X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）、紫外可见分光光度计（UVS）、光致荧光光谱（PL）对样品的结构、形貌和发光进行表征.结果表明掺杂后的样品仍为六角纤锌矿结构,随着掺杂浓度提高,掺杂样品的XRD衍射峰向大角方向微移,透射边向短波方向微移,紫外发光峰的强度逐渐增强,表面均呈颗粒状且尺寸逐渐减小. 相似文献
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对迈克尔孙干涉仪的实验原理和使用过程进行分析,重点讨论非定义域条件下产生等倾条纹的原理、形状、分布情况,并以此提出一些操作技巧. 相似文献
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