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通过对德温特创新平台数据库中收录的光刻技术领域的专利数据进行分析,从专利整体环境、技术布局和机构竞争3个方面,探讨全球光刻技术的技术竞争态势。研究结果表明：全球光刻领域专利族数量仍呈现逐年递增的趋势,中国近几年技术研发活跃度较高,但与技术原始积累较强的美、日相比仍有较大差距;研究热点围绕极紫外光刻技术呈发散式分布;全球范围内,各国机构科研活动的内部集聚性明显,外部技术壁垒由日、美等技术领先国家搭建,形成局部技术锁定。因此,中国在光刻方面必须把握国家科技转型发展机遇期,敏锐感知技术发展趋势以提前布局,理论研究与应用研究协同推进,加快构建以国内合作为主、以国际合作为辅的新型合作组织及治理机制。 相似文献
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